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Abstracts
24. Mai 2018 / 24 mai 2018
Properties and benefits of combining chemical, electrochemical and physical deposition methods (E)
Prof. Bojan Podgornik, IMT Ljubljana (SLO)
Metallische Seed Layers für galvanische Schichten in der Halbleiterindustrie: Anforderungen und Lösungen (D)
Dr. Jörg Patscheider, Evatec AG, Trübbach
Experimentelle Bauteiluntersuchungen von Oxidhybridschichten als verschleissfeste Gleitschicht in niederviskosen, hochflüchtigen Medien (D)
Alexander Diem, V-Research GmbH, Dornbirn (A)
CVD und galvanotechnische Oberflächenbehandlungen für selektive Farbgebung (F)
Joël Matthey, HES-SO, Groupe Ingénierie des Surfaces, La Chaux-de-Fonds
Neue Generation von keramischen Beschichtungen für Implantate und medizinische Instrumente (F)
Dr. Antonio Santana, Ionbond, Olten
Chemische Reaktivität Charakterisierung von Beschichtungsgrenzflächen (D)
Dr. Roland Hauert, Empa, Labor für Fügetechnologie und Korrosion, Dübendorf
PVD/CVD Schichten Charakterisierung (D)
Michael Schwarzenberger, Helmut Fischer AG, Hünenberg
Kombinierte CVD/PECVD Mehrschichtsysteme für ultrahohen Wasser- und Korrosionsschutz (D)
Dr. Andreas Hogg, Coat-X SA, La Chaux-de-Fonds
Sol-Gel modifizierte anodische Oxidschichten (D)
Dr. Roman Fuchs, FME GmbH, Neuhausen